|
|
|
| 石墨烯薄膜技术发展综述——基于DII数据库的分析 |
| 梁燕,钟书华 |
| （华中科技大学 公共管理学院，湖北 武汉 430074） |
|
|
|
|
摘要 通过对石墨烯薄膜技术专利数量的时间序列统计，形成技术发展趋势图，分析石墨烯薄膜技术的发展波动规律。研究表明，石墨烯薄膜技术总体态势呈现上升式循环发展，专利数量逐年增长；波动特征主要表现为大涨大落，波长较短，波幅逐步扩大。发展波动受政府专项计划、技术突破点、研究主体数量变化和技术应用领域拓展等因素影响。构建石墨烯薄膜技术发展波动周期预测模型，使用现有的专利数据，对石墨烯薄膜技术未来10年的发展趋势进行合理预测，为制定石墨烯薄膜技术战略和产业政策提供参考。
|
|
| 关键词:
石墨烯薄膜
专利分析
发展波动
|
|
出版日期: 2021-03-25
发布日期: 2021-04-23
整期出版日期: 2021-03-25
|
|
|
| 基金资助: 中央高校基本科研业务费专项“我国新一代信息技术智慧专业化评价及‘十四五’规划重点选择”（2020WKZDJC001） |
| 作者简介: 梁燕（1995—），女，华中科技大学公共管理学院硕士研究生，研究方向：科技政策与科技管理；钟书华（1957—），男，华中科技大学公共管理学院教授、博士生导师，研究方向：科技政策与科技管理。 |
| No Suggested Reading articles found! |
|
|
Viewed |
|
|
|
Full text
|
|
|
|
|
Abstract
|
|
|
|
|
Cited |
|
|
|
|
| |
Shared |
|
|
|
|
| |
Discussed |
|
|
|
|
