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| 我国集成电路布图设计专有权探究 |
| 杨晓丽1,2,关欣1,杨逸航1,贺美伊1 |
| （1.国家工业信息安全发展研究中心，北京 100040；2.中南财经政法大学知识产权研究中心，湖北 武汉 430073） |
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摘要 布图设计是集成电路设计制造核心环节之一。我国于2001年颁布《集成电路布图设计保护条例》及《集成电路布图设计保护条例实施细则》，正式确立了集成电路布图设计专有权在中国法律体系中的地位。通过对我国集成电路布图设计专有权数据的研究分析，以及对近年来国家发布的集成电路产业相关政策、法规的解读，总结目前我国集成电路布图设计工作中面临的主要问题，提出培育龙头企业、加强产学研用合作、完善法律体系、规范管理制度、加强政策支撑等对策建议。
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| 关键词:
集成电路
布图设计
专有权保护
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出版日期: 2020-07-25
发布日期: 2020-08-13
整期出版日期: 2020-07-25
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| 作者简介: 杨晓丽(1978－ ),女,国家工业信息安全发展研究中心高级工程师,集成电路知识产权联盟秘书长,研究方向:信息技术、法律、知识产权;关欣(1978－ ),女,国家工业信息安全发展研究中心行业研究员,研究方向:集成电路、知识产权;杨逸航(1996－ ),男,国家工业信息安全发展研究中心行业研究员,研究方向:半导体、知识产权;贺美伊(1979－ ),女,国家工业信息安全发展研究中心行业分析师,研究方向:集成电路。 |
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